韓國連續鍍板設備陽極層離子源清洗

1 輸入電壓 380V 10%三相四線 50-60Hz

2 輸出特性 調流調壓

3 輸出空載電壓 DC 1500V /3000V

4 輸出電流 可根據客戶需求選擇

5 負載持續率 100%

6 整機效率 88%

7 功率范圍 可根據客戶需求選擇

8 工作真空度 2×10-2~6×10-1 Pa

9 離子源尺寸 可根據客戶需求定制

10 均勻性：±10%

11 離子束流 ：10-35mA/cm

12 陰極間隙寬度:2.5-3mm

13 適應氣體：氬氣、氦氣、氫氣、氧氣、氮氣、乙炔等等

14 氣體流量：1-4sccm/cm(設備抽速)

陽極層離子源可用于離子蝕刻，離子清洗、活化和強化材料表面、消除靜電、輔助鍍膜等作用。

也可直接鍍DLC（類金剛石）、光學膜和氧化膜等。

特性：

    依據陽極層線性封閉漂移理論，氣體在離子中的陰陽極之間通過，其陽極的正電壓與加在內外陰極端部間的強磁場相互作用，產生等離子體，來自于等離子體中的離子受陽極電場的驅動，由離子源中產生噴出的離子束流。

    可作為基片表面的清潔離子清洗源。可在柔性基片上直接鍍DLC和光學膜、氧化物、氮化物等作為磁控濺射過程中的離子輔助沉積。低氣壓、低電壓、高束流。陽極膜離子源產生的低能量、大束流的離子束可以有效去除基片表面的有機污染物和氧化層，增加薄膜的附著力，同時避免對基片轟擊時造成損傷(如平板顯示器鍍膜、柔性基材鍍膜)。

    無燈絲、柵極及中和柵、可長時間穩定運行和生產。非常高的平均無故障時間和極地的維護成本。由于陽極膜離子源無需燈絲，空心陰極等電子中和器而且水冷完全，所有其對鍍膜環境的溫度改變很小。這個特性對溫度敏感基片的鍍膜非常有利。同樣道理，沒有電子中和器使其可以長時間免維護工作。